镀铜、镍、金、锡和锡铅制程术语手册
[09-12 11:32:15] 来源:http://www.88dzw.com 电路基础 阅读:8312次
文章摘要:15、Electrolytic Tough Pitch 电解铜 为铜材的一种品级,是将"转炉"中所治炼得的粗铜(即泡铜),另挂在硫酸铜槽液中当成阳极,再以电解方式从阴极上得较纯的铜,即成为这种ETP电解铜(含氧0.025~0.05%)。若另将这种 ETP 铜放在还原性环境中再行冶炼,即可成为更好的"无氧铜"或"磷铜",可做为电镀铜槽液中的阳极。 16、Electro-tinning镀锡也是一种电镀方式,但目的却不在乎镀层的完美与否,而仅采低电流及非溶解性阳极方式,欲将溶液中金属离子镀在广大面积的多片阴极板上,以达到回收金属及减轻排放水
镀铜、镍、金、锡和锡铅制程术语手册,标签:电子电路基础,模拟电路基础,http://www.88dzw.com15、Electrolytic Tough Pitch 电解铜
为铜材的一种品级,是将"转炉"中所治炼得的粗铜(即泡铜),另挂在硫酸铜槽液中当成阳极,再以电解方式从阴极上得较纯的铜,即成为这种ETP电解铜(含氧0.025~0.05%)。若另将这种 ETP 铜放在还原性环境中再行冶炼,即可成为更好的"无氧铜"或"磷铜",可做为电镀铜槽液中的阳极。
16、Electro-tinning镀锡
也是一种电镀方式,但目的却不在乎镀层的完美与否,而仅采低电流及非溶解性阳极方式,欲将溶液中金属离子镀在广大面积的多片阴极板上,以达到回收金属及减轻排放水中金属污染的目的。电路板业界常在蚀铜液的循环系统中,加设这种电解回收装置。
17、Fault Plane 断层面
早期的焦磷铜的镀层中,常因有机物的累积,而造成其片状结晶铜层中产生局部黑色微薄的裂面,其原因是由于共同沉积的碳原子集中所致。从微切片的画面中可清楚看到弧形的黑线,称之为"断层"。
18、Filter 过滤器、滤光镜片
在湿制程槽液作业中,为清除其中所产生的固态粒子而加装的过滤设备,称之为过滤器。此字有时也指光学放大镜,特殊效果的滤光镜片而言。
19、Gilding 镀金
是镀金老式的说法,现在已通用 Gold Plating。
20、Hardness 硬度
是指物质所具有抵御外物入侵的一种"耐刺穿性"(Resistance to Penetration)。例如以一坚硬的刺头(Penetrator)用力压在金属表面时,会因被试面的软硬不一,而出现大小不同的压痕(Indentation),由此种压痕的深浅或面积可决定其硬度的代表值。常见的硬度可分为"一万硬度"及"微硬度"两种,前者如高强钢,经镀硬铬后的表面上,在压头(Indentator)荷重 150公斤所测到的硬度,可用"RC-60"表示之(即 Rockwell"C"scale 的 60 度)。微硬度检测时荷重较轻,例如在 25 克荷重下,可在镀金层的截面上,以努普(Knoop)压头所测到的微硬度,可表达为"KHN25150"(即表示采用 25 克荷重的测头于显微镜下小心压在金层断面上,以其长菱形的大小而得到 150度的数字)。 一般镀金层由于需具备较好耐磨损性起见,对其微硬度常有所讲究,但以 KHN25150~200 之间的韧性为宜,太硬了反易磨损。一般经回火后的纯金,其微硬度即回降为 KHN25 80 左右。
21、Hydrogen Embrittlement 氢脆
因电镀溶液是由水所配制,故在电镀的同时,水也会被电解而在阴极上产生氢气满在阳极产生氧气。那是由于带正电的H会往阴极游动,带负电的O=会往阳极游动之故。由于氢气的体积很小,故当其在阴极外表登陆,而又未及时被赶走浮离时,则很可能有一部份,会被后来登陆的金属所覆盖而残留在镀层中,甚至还会往金属底材的细缝中钻进,造成镀件的脆化称为"氢脆"。此现象对高强钢物体之为害极大,二次大战时,美军即发现很多飞机的起落架常会折断,后来才研究出那是因电镀时的"氢脆"所造成的。一般碱性镀液的"氢脆性"要比酸性镀液少,而且若能在镀完后立即送进烤箱在 200 ℃下烘烤2 小时以上,可将大部份氢气赶出来,此二种做法皆可减少氢脆的发生。
22、Laminar Structure 片状结构
在电路板中是指早期所用的"焦磷酸镀铜"之铜层,其微观结构即为标准的层状片状组织,与高速所镀之铜箔(1000 ASF 以上)所具有的柱状结构(Columnar Structure)完全不同。后来所发展的硫酸铜镀层,则呈现无特定结晶组织状态,但是其所表现的平均延伸性(Elongation)以及抗拉强度(Tensile Strength)却反而较前两者更好。
23、Leveling 整平
电镀槽液中所添加的有机助剂,大体可分为光泽剂及载运剂(Carrier)两类,整平剂(Leveler 或 Levelling Agent)即属后者之一。电路板之镀铜尤不可缺少整平剂,否则深孔中央将很难有铜层镀上。其所以帮助镀层整平的原理,是因高电流密度区将会吸附较多的有机物(如整平剂),导致该处电阻增大而令铜离子不易接近,或将电流消耗在产生氢气上,令低电流密度高电阻区也可进行镀积(Deposit),因此可使镀层渐趋均匀。裸铜板各种露出待焊的铜面上,需再做喷锡层,其原文亦称为Hot Air Leveling,大陆术语的为"热风整平"。
24、Migration Rate 迁移率
当在绝缘基材体中或表面上发生" 金属迁移 "时,在一定时间内所呈现的迁移距离,谓之Migration Rate。
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