3LCOS比拼3LCD 两大投影技术全揭秘
[09-12 00:08:19] 来源:http://www.88dzw.com 电子基础知识 阅读:8870次
文章摘要:外部引线少、连接简单及整机装配简便 普通的LCD有大量密集的外部引线,如一个1024×768像素点阵的LCD便有2592条外部引线,给整机装配带来了诸多不便,而LCoS由于是将LCD制于单晶硅片上,LCD的行、列引出线皆通过半导体工艺在硅片内与IC相连接,故留在外部的仅有数条数据控制线、时序线及电源线等。可利用通用连接端口与前级电路相连接,颇为简便。 体积更小、外观更精巧 普通的LCD在制造过程中需在玻璃基板上进行光刻,制成像素。通常将像素制至0.28mm已属不易,因在每个像素上还需制出一个有源器件。但LCoS的像素是制在单晶硅片上,硅片采用LSIC的工艺进行加工,可将
3LCOS比拼3LCD 两大投影技术全揭秘,标签:电子基础,电子基础知识应用,http://www.88dzw.com外部引线少、连接简单及整机装配简便
普通的LCD有大量密集的外部引线,如一个1024×768像素点阵的LCD便有2592条外部引线,给整机装配带来了诸多不便,而LCoS由于是将LCD制于单晶硅片上,LCD的行、列引出线皆通过半导体工艺在硅片内与IC相连接,故留在外部的仅有数条数据控制线、时序线及电源线等。可利用通用连接端口与前级电路相连接,颇为简便。
体积更小、外观更精巧
普通的LCD在制造过程中需在玻璃基板上进行光刻,制成像素。通常将像素制至0.28mm已属不易,因在每个像素上还需制出一个有源器件。但LCoS的像素是制在单晶硅片上,硅片采用LSIC的工艺进行加工,可将象像制至4μm以下。故在一个仅零点数英寸的硅片上可制成1024×768像素,甚至1920×1240像素点阵密度的显示产品。
低成本潜力
显示的信息量密度增大了,而体积却减少了(达0.35~0.5英寸),材料费及成本自然便会大幅度地降低,较相同分辨率的LCD和数字微镜(DMD)低得多,将来克服成品率低的弱点,相信还会有更大的降价空间。
高解析度 高亮度
LCOS投影技术最大的特色在于其面板的下基板采用硅晶圆CMOS基板,由于下基板的材质是单晶硅,拥有良好的电子移动率,而且单晶硅可形成较细的线路,因此比较容易生产出高解析度的面板。LCOS为反射式技术,不会像LCD光学引擎会因为光线穿透面板而大幅度降低光利用率,因此光利用率可提高至40%,与穿透式的LCD的3%相较,可减少耗电,并可产生较高的亮度。
像素开口率高

LCoS解决了普通TFT-LCD像素开口率不高的技术难题。开口率是指除去每一个像素的配线部、晶体管部(通常采用黑色矩阵隐藏)后的光线通过部分的面积和每一个像素整体的面积之间的比例。开口率越高,光 线通过的效率越高。普通的TFT-LCD需在每个像素面积内划出一个区域来制成场效应三极管和电容,由于普通的TFT-LCD是在玻璃基板非晶硅膜层上制成的,非晶硅或多晶硅层上制作场效应管时,由于非晶硅或多晶硅的电子迁移率低,故场效应管等有源器件所占的面积较大,而LCoS采用单晶硅,其电子迁移率较非晶硅或多晶硅高得多,所以其面积可制成很小,因而其开口率可很高,达96%以上。
由于LCoS的晶体管及驱动电路皆制于单晶硅基板内,位于反射面之下,并不占用表面面积,故仅有像素间隙才占用开口面积,不像透射式LCD的TFT及导线皆占用开口面积,所以理论上无论是分辨率还是开口率,LCoS都较透射式LCD高。
光利用率高
LCoS可提高光的利用率。它与LCD投影显示器相类似,主要差别在于LCoS属反射式成象,故光利用率可达40%以上,与数字光处理(DLP)相当,而透射式LCD仅有3~10%而已。众所周知,LCD属于被动式显示器件,靠调制外界环境光来实现显示的,普通的LCD在前后各装有一片偏光膜,LCD便是靠调制偏振光的开关通断来实现显示的。偏光膜是靠吸收光来产生偏光的,故制成的LCD透光率很低,因此,为显示清晰,在TFT-LCD的背后需装上一个较强的背光源,该背光源颇耗电,从而将TFT-LCD微功耗的特点丧失贻尽。
LCoS的背基板采用单晶硅基片,故LCoS大多制成反射式。硅片像素上又镀有光学反光膜,可将光全部反射出,从而大部分入射光皆能被利用。LCoS的反射式成像光效高,不仅节电,符合绿色环保需求,而且还能给便携式IT产品提供高清晰度的大屏面。
无技术壁垒
目前拥有LCD核心技术的仅有索尼和爱普生,而LCOS技术则不存在这样的问题,更多厂家进入这一领域有助于技术的完善,但没有统一的技术标准也是普及上的障碍。
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